2002年本科,2007年博士毕业于武汉大学;2007年至2009年在蒙特利尔大学工学院从事博士后研究;2009年入职中国科学院微电子研究所,2011年起任副研究员。一直致力于光与周期纳米结构的相互作用研究,擅长使用经典电磁理论研究超表面的光学性能。在SOI衬底上首次实现了明场结构色,在室温下观察到染料的低阈值激射,并设计了用于先进光刻的极紫外超表面器件。
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